一、概述

偏硅酸（H₂SiO₃）是硅酸的一种存在形式，广泛存在于天然矿泉水、地热水、工业废水及化工产品中。其检测分析旨在保障饮用水品质、优化工业流程及满足环保法规。
核心检测目标：

1. 水质安全：验证矿泉水偏硅酸含量符合《饮用天然矿泉水标准》（GB 8537-2018）的限量要求（≥25 mg/L）。

2. 工业控制：监测地热发电或半导体制造中硅酸浓度，防止设备结垢或工艺异常。

3. 环保合规：确保工业废水排放中硅化合物浓度符合《污水综合排放标准》（GB 8978）。

二、检测标准

三、检测设备与方法

四、检测流程

1. 采样与预处理

· 矿泉水/地下水：

o 使用洁净PET瓶采集，避免玻璃器皿引入硅污染。

o 现场过滤（0.45 μm滤膜）去除悬浮物，4℃保存（24小时内分析）。

· 工业废水：

o 加硝酸至pH≤2，防止硅酸聚合沉淀。

2. 分析步骤（以硅钼蓝法为例）：

· 显色反应：

0. 取50 mL水样，加入5 mL钼酸铵溶液（pH 1.2），生成硅钼黄络合物。

1. 加入草酸消除磷酸盐干扰，随后加抗坏血酸还原为硅钼蓝（λ=815 nm）。

· 分光光度计测定：

o 以超纯水为参比，读取吸光度，通过标准曲线计算偏硅酸浓度。

3. 数据验证：

· 质控样：使用NIST SRM 1640a（天然水标样）验证回收率（90-110%）。

· 平行样：RSD≤5%。

五、费用与周期

六、实际应用

1. 矿泉水品质认证

· 某品牌矿泉水检测：硅钼蓝法测得偏硅酸32 mg/L，符合GB 8537界限指标，获“富硅”认证标签。

· 水源地监控：某地热泉总硅酸检测超标（120 mg/L），调整开采层位后降至80 mg/L。

2. 工业废水处理

· 电子厂废水治理：ICP-OES检测总硅浓度200 mg/L，采用混凝-沉淀工艺后降至20 mg/L。

· 地热发电防垢：监测地热井硅酸浓度（80 mg/L），添加阻垢剂后管道结垢率降低90%。

3. 环保执法

· 印染厂废水抽查：离子色谱法检测偏硅酸超标（65 mg/L vs. 限值50 mg/L），处以罚款并限期整改。

七、注意事项

1. 干扰消除：

· 磷酸盐干扰硅钼蓝法，需加入草酸掩蔽；铁离子干扰可加入EDTA消除。

2. 样品保存：

· 水样中硅酸易聚合，应尽快检测或酸化保存（pH≤2）。

3. 设备校准：

· 分光光度计每日用钼蓝标准溶液校准，离子色谱仪每月用阴离子混标校验。